求助 | 註冊 | 登入
光性量測設備
by sdmclab, 2008-05-30 21:03:22, 人氣(7487)

 

光學量測系統(Optics measurement

 


 

本實驗室光學實驗
 

1. 光激發螢光photoluminescencePL量測系統

         He-Cd Laser (325 nm)He-Ne Laser (632.8 nm)

        Solid state laser (532 nm)IR Laser (980 nm) 

2. 電激發光(electroluminescenceEL量測系統

3. 調制光譜(modulation spectroscopyPR)量測系統

4. 非接觸式電場調制光譜(Contactless electroreflectanceCER量測系統

5. 壓電調制光譜(piezoreflectancePzR量測系統

6. 反射光譜(reflectance spectroscopy量測系統

7. 表面光電壓(surface PhotovoltageSPV)量測系統

8. 穿透光譜(transmission spectroscopy)量測系統

     150 W 氙氣燈150 W 鎢絲燈1000 W 鎢絲燈

9. 吸收光譜(absorption spectroscopy)量測系統

10.光導photoconductivityPC量測系統

11.持續性光導(persistent photoconductivityPPC)量測系統

 

 

低溫致冷系統

 


 

 

    本系統是採用閉迴路氦氣循環壓縮機,配合溫度控制器及真空幫浦,可提供絕對溫度10 K300 K的實驗環境。並且可應用於光性與電性量測實驗上。

 

 

Micro PL(Maico photoluminescence)量測系統

 

 
 

 

光學性質和電性主要是取決於半導體的電子能帶結構(band structure),所以激發光譜與材料內部的鍵結結構有關,當一物體因受到外在提供能量,而放出光子的過程稱為螢光(luminescence),一般常用以提供能量的模式來分類螢光的種類,在半導體量測裡我們常用的有利用能量高於能隙的光源,稱為光激發螢光光譜(Photoluminescence,PL) ,而μ-PL則是利用顯微技術將激發光源的光點尺寸縮小到micro等級。

目前系統開發以下實驗系統,未來加入降溫實驗條件

1.    EL Mapping

2.    PhotoCurrent Mapping

3.    PhotoVoltage Mappling


自動化反射/調製反射量測系統

 



 

此整合性系統可進行各式光學特性量測,為本實驗室自行開發的量測系統,其最大的優點在於其良好的人機介面與自動化的量測,分為接觸式量測(ERPZR…)與非接觸式量測(CERPLPR…);此外,近期新增PLE量測技術(為業界常用的量測技術)掃描式電場調製技術(可進行Wafer FKO量測)

另外,本系統提供兩種訊號接收模式,分別為鎖相放大器(Lock in)DAQ


光激發螢光掃描系統

 

 
 

 

光激發螢光光譜是一種非破壞性、無須接點且方便架設之量測方法,其量測技術目前已被廣泛應用於半導體材料的光學特性以及電子結構的研究分析上。藉由量測輻射螢光譜線的強度、頻譜分佈和頻寬,可以從中了解樣品之成分以及材料品質的差異,一個品質較好的樣品,其PL光譜會呈現出半高寬較窄且發光強度較強之譜線。

附件